Progetto Manhattan made in China. Pechino avanza sul fronte dei chip

L’ultimo colpo di scena nella partita globale dei semiconduttori fa emergere una verità sempre più lampante: la Cina ha smesso da un pezzo di inseguire gli Stati Uniti e corre ormai a distanza ravvicinata a Washington sul fronte della produzione di chip avanzati. A dirlo è un’inchiesta di Reuters, secondo cui Pechino avrebbe costruito in segreto un prototipo di macchina EUV, la tecnologia più avanzata e sensibile dell’intera filiera dei semiconduttori, finora appannaggio quasi esclusivo dell’Occidente. Secondo l’agenzia stampa britannica, il prototipo è stato realizzato all’interno di un laboratorio ad altissima sicurezza a Shenzhen ed è stato completato all’inizio del 2025. La macchina, oggi in fase di test, occupa quasi l’intero pavimento di uno stabilimento industriale ed è il risultato di un lavoro durato anni, portato avanti da un gruppo di ex ingegneri della olandese ASML.

L’azienda europea è, ad oggi, l’unico player globale ad aver sviluppato e commercializzato sistemi di litografia EUV, indispensabili per produrre i chip più avanzati utilizzati nell’intelligenza artificiale, negli smartphone di ultima generazione e nelle applicazioni militari. Le macchine EUV sono al centro di una competizione tecnologica che ha assunto contorni sempre più geopolitici. Utilizzano fasci di luce a ultravioletti estremi per incidere sui wafer di silicio circuiti migliaia di volte più sottili di un capello umano, consentendo densità di calcolo e livelli di efficienza irraggiungibili con le tecnologie precedenti. Proprio per questo, l’accesso a queste macchine è stato uno dei principali bersagli delle restrizioni imposte dagli Stati Uniti e dai loro alleati alla Cina. Il prototipo cinese, riferisce Reuters citando fonti dirette, è già in grado di generare luce EUV in modo stabile, ma non ha ancora prodotto chip funzionanti. Si tratta comunque di un passo in avanti significativo, soprattutto se confrontato con le valutazioni pubbliche di ASML.

Solo pochi mesi fa, l’amministratore delegato Christophe Fouquet aveva sostenuto che alla Cina sarebbero serviti “molti, molti anni” per arrivare a questo livello tecnologico. La scoperta del prototipo suggerisce invece che la tabella di marcia di Pechino potrebbe essere più rapida del previsto. I limiti tecnici restano tuttavia rilevanti. Il principale nodo irrisolto riguarda i sistemi ottici ad altissima precisione, come quelli prodotti dalla tedesca Carl Zeiss, uno dei fornitori strategici di ASML. Senza queste componenti, fondamentali per concentrare e controllare la luce EUV, la macchina cinese risulta ancora lontana dalle prestazioni dei modelli occidentali. Non a caso, le fonti parlano di un prototipo “grezzo”, pensato più per la sperimentazione che per una produzione industriale su larga scala.

Il progetto EUV di Shenzhen rappresenta il punto di arrivo di una strategia nazionale avviata da Pechino circa sei anni fa, con l’obiettivo di raggiungere l’autosufficienza nei semiconduttori, una priorità politica assoluta per il presidente Xi Jinping. Pur inserendosi in un piano industriale dichiarato, l’iniziativa è stata condotta in modo altamente riservato. Secondo Reuters, il coordinamento politico sarebbe affidato a Ding Xuexiang, uno dei più stretti collaboratori di Xi e figura chiave della governance tecnologica cinese. In questo contesto, Huawei svolge un ruolo centrale di regia industriale. Il gruppo coordina una fitta rete di imprese, università e centri di ricerca statali, coinvolgendo migliaia di ingegneri e ricercatori in tutto il Paese. Le fonti descrivono l’iniziativa come una sorta di “Manhattan Project” cinese, evocando il programma con cui gli Stati Uniti svilupparono la bomba atomica durante la Seconda guerra mondiale.

L’obiettivo di lungo periodo è costruire una filiera completamente domestica, in grado di progettare, produrre e integrare chip avanzati senza alcuna dipendenza da tecnologie statunitensi. Il confronto con ASML resta impietoso. L’azienda olandese ha impiegato quasi vent’anni e investito miliardi di euro in ricerca e sviluppo prima di arrivare, nel 2019, alla produzione commerciale dei primi chip EUV. Ogni macchina ha un costo che si aggira intorno ai 250 milioni di dollari ed è utilizzata dai principali produttori mondiali come TSMC, Intel e Samsung.

A partire dal 2018, gli Stati Uniti hanno fatto pressione sui Paesi Bassi per bloccare la vendita di sistemi EUV alla Cina, restrizioni poi ampliate nel 2022 con controlli all’export più stringenti che hanno colpito anche le tecnologie DUV, meno avanzate ma comunque strategiche. Nessuna macchina EUV è mai stata venduta a clienti cinesi, una scelta che ha inciso direttamente sulla capacità produttiva di gruppi come Huawei. La notizia fa però emergere anche il lato più opaco di questa corsa tecnologica. Diversi ex ingegneri ASML sarebbero stati reclutati con bonus molto elevati e inseriti nel progetto sotto falso nome, dotati di badge e identità fittizie per mantenere la segretezza.

Il programma è classificato come sensibile per la sicurezza nazionale e protetto da un rigido regime di compartimentazione delle informazioni. Il contributo di questi tecnici veterani è stato cruciale. Senza la loro conoscenza diretta dei sistemi occidentali, spiegano le fonti, il reverse engineering delle macchine EUV sarebbe stato quasi impossibile. Accanto a loro opera un team di circa cento giovani laureati, impegnati nello smontaggio e nella ricostruzione dei componenti. Ogni postazione di lavoro è monitorata da telecamere e i risultati migliori vengono premiati con bonus economici. Un altro elemento chiave riguarda l’approvvigionamento dei componenti. Secondo Reuters, la Cina sta recuperando parti da vecchie macchine ASML e da fornitori giapponesi come Nikon e Canon attraverso mercati secondari, aste internazionali e una rete di intermediari utilizzata per mascherare gli acquirenti finali. Un sistema che, pur muovendosi in una zona grigia, consente a Pechino di sperimentare soluzioni alternative e accumulare competenze preziose.